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Das
Ultra-hochauflösende Focused Ion Beam System
(FIB) (Helios Nanolab 600, siehe Bild unten)
dient zur 3D Materialcharakterisierung,
Fehleranalyse und Nanocharakterisierung. Die
Elektronenoptik hat eine Auflösung von 0,9nm @
15kV und 1,4nm @ 1kV und ist mit einer
ultra-high-brightness-Feldemissionsquelle mit
magnetischer Immersionslinse und SE und RE
Inlens Detektoren ausgestattet. Die Ionenoptik
verfügt über eine Auflösung von 5nm @ 30kV.
Durch das ResolveRT Softwarepaket besteht die
Möglichkeit aus 2-dimsionalen Schnitten
3-dimensionale Bildrekonstruktionen zu
erstellen.
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